Handizkako AlTa Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea PVD estaldura Neurrira egindako fabrikatzailea eta hornitzailea |Aberatsa

Aluminio-Tantalioa

AlTa Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea PVD estaldura Neurrira egindako Irudi nabarmendua

Deskribapen laburra:

Kategoria	Aleazio Sputtering Helburua
Formula kimikoa	AlTa
Konposizioa	Aluminio-Tantalioa
Garbitasuna	%99,9,%99,95,%99,99
Forma	Plakak, zutabe-helburuak, arku katodoak, neurrira egindakoak
Ekoizpen Prozesua	Hutsean urtzea，PM
Tamaina eskuragarri	L≤200mm，W≤200mm

Bidali mezu elektronikoa

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Helburuak aluminio eta tantalio hautsak nahasiz edo hutsean urtuz prestatzen dira, eta dentsitate osora trinkotuz.Horrela trinkotutako materialak aukeran sinterizatu egiten dira eta gero nahi den xede-forman eratzen dira.

Aluminiozko Tantalum sputtering helburuak purutasun handia, mikroegitura homogeneoa eta eroankortasun bikaina ditu.Pantaila lauen industriarako film meheen eraketan oso erabilia da.Aluminioa Tantaloa ere gehitu liteke errendimendu handiko titaniozko aleazioa ekoizteko, tenperatura altuko egokitasuna hobetzeko.

Al-Ta aleazioaren purutasun edukia

konposizioa	Edukia（%）
	Ta	Fe	Si	C	O
AlTa60	55,0~65,0	≤0,05	≤0,02	≤0,01	≤0,05
AlTa70	65,0~75,0	≤0,05	≤0,02	≤0,01	≤0,05

Rich Special Materials Sputtering Helburuen fabrikazioan espezializatuta dago eta Aluminiozko Tantalum Sputtering Materialak ekoitzi ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera.Gure produktuek propietate mekaniko bikainak dituzte, egitura homogeneoa, bereizketarik, pororik edo pitzadurarik gabeko gainazal leundua.Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.

Aurrekoa: AlTi aleazioa Sputtering Helburua Garbitasun handikoa

Hurrengoa: AlCu Sputtering Helburua Garbitasun handiko film mehea PVD estaldura pertsonalizatua