CoFeTaZr aleazio-sputtering helburua Garbitasun handiko film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua

Kobaltoa Burdina Tantaloa Zirkonioa sputtering helburua hutsean urtzearen bidez fabrikatzen da.Ekoizpen prozesu honek osagai nagusiak oxidaziotik babestu ditzake eta mikroegitura homogeneoa, aleen tamaina uniformea ​​eta metatutako filmen koherentzia handia bermatu ditzake.

Bero-tratamenduaren ondoren, helburuaren PTF nabarmen hobetu liteke, beraz, sarritan erabiltzen da geruza magnetiko leunaren materiala grabazio magnetiko perpendikularretako geruzatan.

Rich Special Materials Sputtering Helburuen fabrikazioan espezializatuta dago eta Kobalto Burdina Tantalo Zirkonio Sputtering Materialak ekoitzi ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera.Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.