CoFeV aleaziozko sputtering helburua Garbitasun handiko film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua

Cobalt Iron Vanadium sputtering helburuak kobaltoaren % 52ko edukia du, vanadioaren % 9-23ko edukia eta gainerakoa - material magnetiko iraunkor harikorra.Deformazio plastikorako ahalmen bikaina erakusten du eta forma konplikatuak dituzten osagaietan fabrika daiteke.

Kobalto Burdin Banadio aleazio-sputtering helburuak saturazio-fluxu-dentsitate oso altua du Bs (2.4T) eta Curie tenperatura (980 ~ 1100 ℃).Pisua murrizten lagun dezake eta egonkortasuna hobetu dezake tenperatura altuetan.Hegazkin-tresna elektrikoetarako material egokia da (makina elektriko berezi txikiak, elektroimana eta errele elektrikoa).Gainera, saturazio magnetostrikzio koefiziente handia du, eta transduktore magnetoestrictiboa sor dezake.

Rich Special Materials Sputtering Helburuen fabrikazioan espezializatuta dago eta Kobalto Burdina Vanadio Sputtering Materialak ekoitzi ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera.Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.