CrTi Alloy Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egina

Helburuak kromo eta titanio hautsak nahastuz edo hutsean urtuz eta gero trinkotuz prestatzen dira dentsitate osora.Horrela trinkotutako materiala aukeran sinterizatu daiteke eta, ondoren, nahi den xede-forman eratu.

Chrome Titanium sputtering helburuak purutasun handia, mikroegitura homogeneoa, dentsitate handia eta gas eduki txikia ditu.Oso erabilia da moldeak mozteko erreminten film meheen eraketan.Deposizio-prozesuan, TiCN estaldura bat eratu liteke, golf-baloi baten kanpoko gainazalean zuzenean aplikatu ahal izateko.TiCN estaldura metalezko gainazalean estu egon liteke.Estaldura mota hau Golf zelaiaren ingurunera ezin hobeto molda liteke bere propietate mekaniko, gogortasun eta gogortasun bikainengatik.

Gure kromo-titaniozko sputtering helburuak arretaz maneiatzen dira biltegiratze eta garraioan kalteak saihesteko eta gure produktuen kalitatea jatorrizko egoeran gordetzeko.

Rich Special Materials sputtering helburuak ekoizten espezializatuta dago eta kromo eta titaniozko sputtering materialak ekoitzi ditzake bezeroaren zehaztapenen arabera.Gure produktuek propietate mekaniko bikainak dituzte, egitura homogeneoa, gainazal leunduak eta bereizketa, porositate edo pitzadurarik ez dute.Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.