Ongi etorri gure webguneetara!

FeCoTa Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua

Burdinazko kobaltoa tantalioa

Deskribapen laburra:

Kategoria

Aleazio Sputtering Helburua

Formula kimikoa

FeCoTa

Konposizioa

Burdinazko kobaltoa tantalioa

Garbitasuna

%99,9,%99,95,%99,99

Forma

Plakak, zutabe-helburuak, arku katodoak, neurrira egindakoak

Ekoizpen Prozesua

Hutsean urtzea,PM

Tamaina eskuragarri

L≤200mm,W≤200mm


Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Burdinazko kobaltoko tantalioko helburuak forma zirkularrean eta grabazio magnetiko bertikaleko euskarri bertikaleko film meheko material kritikoetan eskuragarri daude.Aleazioan dagoen tantalio kantitate handiak bereizketa eragingo luke eta disolbatu gabeko partikulak aurkeztuko lituzke.Mikroegituraren homogeneotasuna bermatu eta materialen propietate mekanikoak hobetu ditzakeen ekoizpen metodo berezia erabiltzen dugu.

Produktuaren izena

FeCoTa

Fe/Wt%

Balantzea

Balantzea

Balantzea

% Ko/pisu

21,6±0,5

21,9±0,5

20,2±0,5

Ta/pisu %

41,1±0,8

39,4±0,8

44,3±0,8

Metal ezpurutasun edukiappm)

Ni

≤100

≤100

≤100

Al

≤300

≤300

≤300

Si

≤200

≤200

≤200

Gasaren ezpurutasun edukiappm)

C

≤200

≤200

≤200

N

≤100

≤100

≤100

O

≤600

≤600

≤600

S

≤75

≤75

≤75

Rich Special Materials Sputtering Helburuen fabrikazioan espezializatuta dago eta Iron Cobalto Tantalum Sputtering Materialak ekoitzi ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera.Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.


  • Aurrekoa:
  • Hurrengoa: