Handizkako FeTa Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako fabrikatzailea eta hornitzailea |Aberatsa

Burdinazko tantalioa

FeTa Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako Irudi aipagarria

Deskribapen laburra:

Kategoria	Aleazio Sputtering Helburua
Formula kimikoa	FeTa
Konposizioa	Burdinazko tantalioa
Garbitasuna	%99,9,%99,95,%99,99
Forma	Plakak, zutabe-helburuak, arku katodoak, neurrira egindakoak
Ekoizpen Prozesua	Hutsean urtzea
Tamaina eskuragarri	L≤200mm，W≤200mm

Bidali mezu elektronikoa

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Iron Tantalum Sputtering Helburuaren deskribapena

Burdina Tantalioa material egokia da lurrunketa iturrietarako, hodi elektronikoetarako, gailu protesikoetarako eta zuzengailuetarako.Galdaketa eta solidotze azkarraren teknika aurreratua erabiltzen dugu purutasun eta egitura homogeneo handiko Fe-Ta aleazioa lortzeko.Ekoizten dugun helburuak propietate mekaniko bikainak ditu eta gainazaleko geruza finduak sor ditzake.

Burdina Tantalioa Sputtering Helburuko ontziratzea

Gure Iron Tantalum sputter helburua argi eta garbi etiketatu eta etiketatuta dago identifikazio eraginkorra eta kalitate-kontrola bermatzeko.Kontuz ibili behar da biltegiratzean edo garraioan sor daitezkeen kalteak saihesteko.

Lortu kontaktua

RSMren Iron Tantalum sputtering helburuak purutasun oso handikoak eta uniformeak dira.Hainbat forma, garbitasun, tamaina eta preziotan daude eskuragarri.

Hainbat forma geometriko horni genitzake: hodiak, arku katodoak, planoak edo neurrira egindakoak.Gure produktuek propietate mekaniko bikainak dituzte, mikroegitura homogeneoa, bereizketarik, pororik edo pitzadurarik gabeko gainazal leundua.

Garbitasun handiko film mehe estaldura-materialak ekoizten espezializatuta gaude, errendimendu bikainarekin, baita ahalik eta dentsitate handienarekin eta ahalik eta batez besteko ale-tamaina txikiena ere, moldeen estalduran, dekorazioan, automobiletako piezak, E baxuko beira, zirkuitu integratua erdieroaleak, film mehean erabiltzeko. erresistentzia, pantaila grafikoa, aeroespaziala, grabaketa magnetikoa, ukipen-pantaila, film meheko eguzki-bateria eta beste lurrun-deposizio fisikoa (PVD) aplikazioak.Mesedez, bidal iezaguzu kontsulta bat sputtering helburuei eta zerrendatuta ez dauden jalkitze-materialei buruzko uneko prezioei buruz.

Aurrekoa: FeNi Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua

Hurrengoa: FeCu Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua