Handizkako MoCu Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako fabrikatzailea eta hornitzailea |Aberatsa

Molibdeno kobrea

MoCu Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako Irudi nabarmendua

Deskribapen laburra:

Kategoria	Aleazio Sputtering Helburua
Formula kimikoa	MoCu
Konposizioa	Molibdeno kobrea
Garbitasuna	%99,9,%99,95,%99,99
Forma	Plakak, zutabe-helburuak, arku katodoak, neurrira egindakoak
Ekoizpen Prozesua	PM
Tamaina eskuragarri	L≤200mm, W≤200mm

Bidali mezu elektronikoa

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Molibdeno Kobrea sputtering helburua infiltrazio sinterizazioaren bidez fabrikatzen da: Molibdeno-hautsak sinterizatu eta erdilandutako produktuetan eratzen dira, mikrouhinen bidez lagundutako ur-disoluzio estrategiarekin konbinatuta.Molibdeno Kobrezko aleazioak propietate fisiko eta mekaniko bikainak ditu: eroankortasun elektriko eta termiko egokia, hedapen termikoaren koefiziente baxua eta erregulagarria, higadura erresistentzia eta tenperatura altuko erresistentzia.

Konposizioak (%)	Cu	Mo	Ezpurutasuna (%)
MoCu10	10±2	Balantzea	≤0,1
MoCu15	15±3	Balantzea	≤0,1
MoCu20	20±3	Balantzea	≤0,1
MoCu25	25±3	Balantzea	≤0,1
MoCu40	40±5	Balantzea	≤0,1

Rich Special Materials Sputtering Helburuen fabrikazioan espezializatuta dago eta Molibdeno Kobrezko Sputtering Materialak ekoitzi ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera.Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.

Aurrekoa: MoNi Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua

Hurrengoa: NbTi Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua