MoNb Sputtering Helburua Garbitasun handiko film mehea PVD estaldura pertsonalizatua

Molibdeno Niobio helburuak molibdeno eta niobio hautsak nahasiz prestatzen dira, eta ondoren trinkotu egiten dira dentsitate osora.Horrela trinkotutako materialak aukeran sinterizatu egiten dira eta gero nahi den xede-forman eratzen dira.
Molibdeno niobioaren sputtering helburuak urtze-puntu, indarra eta gogortasuna ditu tenperatura altuetan.Bero eta eroankortasun elektriko bikainak ere erakusten ditu dilatazio termiko koefiziente baxuarekin.Niobioa molibdenoari gehitzeak kristal likidoko pantaila-pixela gutxienez hiru aldiz hobetzen du.

Molibdeno-niobio-sputtering helburua material kritikoak dira panel lauko pantailarako (FPD) eta kantitate handietan erabiltzen dira molibdeno-niobio-aleazioetan kristal likido kuboideen pantailarako (LCD) iturria, eremu-igorpenaren pantaila, argi-igorpen organikoa, plasma. pantaila-panelak, katodoluminiszentzia-pantaila, hutseko pantaila fluoreszentea, TFT pantaila malgua eta ukipen-pantailak, etab. Panelen bistaratzeko prozesuen elektroi izpiaren lurruntzeak Niobio-gordailua egin dezake igorgailuaren goiko muturrean, eta hori oso lagungarria izango da definizio handiko pantaila handiak garatzeko.

Rich Special Materials Sputtering Helburuen fabrikazioan espezializatuta dago eta Molibdeno Niobio Sputtering Materialak ekoitzi ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera.Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.