Guangdong Hong Kong Macao Hutsean Teknologiaren Berrikuntza eta Garapenerako Bosgarren Foroa arrakastaz ospatu zen

Azaroaren 18tik 21era, Guangdong Hong Kong Macao hutseko teknologiaren berrikuntza eta garapenerako foroa egin zen "Material berriak, energia berriak, aukera berriak" gaiarekin, Zengcheng-en, Guangdong-en.Saio honetan 300 buruzagi adituk, 10 erakunde akademiko eta nanoteknologiaren industriako 30 enpresak parte hartu zuten, probintziako gobernuko funtzionarioek, zientzia eta teknologiako probintzia elkarteko ikertzaileek eta Txinako Zientzia Akademiako akademiko taldeko ikertzaileek barne.

Tsinghua Unibertsitateko, Nanjingeko Unibertsitateko, Hegoaldeko Zientzia eta Teknologiako Unibertsitateko eta beste Unibertsitate eta Ikerketa Erakundeetako irakasleek 35 txosten eman zituzten hiru gai nagusi lantzen dituztenak: "Hutsean estaltzeko makina eta teknologia", "Film mehe eta gailu fotoelektrikoak funtzionalak" eta "higadura-erresistentzia handia". estaldura eta gainazaleko ingeniaritza”, azken ikerketa zientifiko eta teknologien berri ematen dutenak, baita Hutseko estalduraren industrian berrikuntzen eta teknologien garapena sustatzeko ere.

Txostenak honako hauek dira:
"Sputtering helburuen eta sputter filmen industriaren aukera, erronka eta aldaketa teknologiko berrien ikuspegi orokorra"
"PVD estalduraren garapen teknologikoa industria aeroespazialetarako"
"Litiozko baterien aukerak eta erronkak"
"Mikro/nano fabrikazioa eta aplikazioa"
"CVD eta diamante sintetikoak"
“Materialak eta film meheak”
"Fine mehe, nano eta ultrameheen teknologiak"
"Sistema mikroelektromekanikoak eta nanoelektromekanikoak"
"Material elektroniko eta fotonikoen prozesatzeko metodoa"
"Tresna zehatza eta tresna ultrazehatza ekoizteko metodoak"
"Turbo-ponpa molekularraren azken garapen teknologikoak"
"Plasmaren Zientzia eta Teknologia"

Rich Special Materials-eko hiru ordezkari gonbidatu zituzten Hutsaren Industrian Aditu gisa eta Saioan parte hartu zuten.Beste aditu, ekintzaile eta ikertzaile batzuekin elkarrekintzan aritu ziren azken I+G jarduerei eta sputtering-prozesuaren azken garapenei buruz.Aukera ona da guretzat lehen eskuko informazioa ezagutzeko, gure lehiakortasun teknologikoa indartzeko eta lankidetza eta negozio aukerak aztertzeko.