Sputtering titaniozko aleazio helburua eta titanio metala titanioz osatuta daude, beraz, informazioa gutxi gorabehera berdina da, baina bien arteko aldea batez ere sputtering titanio aleazio helburua titaniozko metalez egina dago hainbat modutan, eta titanioa naturan gertatzen da. titanio minerala.Titanio aleazio helburuak lanbide-kategoria askotan erabil daitezke, orain Beijing Richmat-en egileak titaniozko aleazio-helburu arruntak laburbildu ditu egoeraren erabilerari dagokionez, sarrera zehatz bat emateko.
,
一、Ti helburuak zirkuitu integratuetarako
Titaniozko aleazio-helburuak sputtering egiteko baldintzak desberdinak dira zirkuitu ez-integratuen eta zirkuitu integratuen artean.Oro har, zirkuitu integratuek estaldura datuetarako baldintza handiagoak dituzte, hala nola, purutasun handiagoa, ale-tamaina txikiagoa eta eskala-zehaztasun zehatzagoa. Zirkuitu integratuetako titaniozko helburuen purutasuna % 99,995 baino handiagoa da, hau da, integratuta ez daudenetan erabiltzen dena baino handiagoa. zirkuituak, titaniozko helburuen eskakizunen erabilera desberdinak oso desberdinak direla adieraziz.
二、Ti target pantaila laurako
Pantaila lauetan erabiltzen diren titanio-aleazio-helburuak kristal likidoen pantaila, plasma-pantaila, elektrolumineszentzia-pantaila eta eremu-igorpenaren pantaila dira. Pantaila lauaren film mehea sputtered osatzeko metodoa da, Al, Cu, Ti eta Mo dira panel lauetarako metalezko sputtering helburu nagusiak. pantailak. Pantaila lauetarako titaniozko aleazioko helburuen purutasuna % 99,9 baino handiagoa izan ohi da.
三、Ti helburuak dekorazio-materialetarako
Garbitasun handiko titaniozko aleazio materialak airearen korrosioarekiko erresistentzia bikaina du, airean epe luzeko erabilerak ez du kolorea aldatzen, titanioaren eta gizakien kontaktuaren jatorrizko kolorea alergia eta beste ezaugarri bikainak ez direla ziurtatzeko.Hori dela eta, purutasun handiko titanioa dekorazio-material gisa ere erabil daiteke, azken urteotan, hala nola eskumuturrekoak, erlojuak eta betaurrekoak eta titaniozko garbitasuna duten beste apaingarriak 5N mailara iritsi dira.
四、Ti helburuak huts ultra-altuko ponpaketa sistemetarako
Metal kimikoki aktibo gisa, titanioak elementu eta konposatu askorekin erreakziona dezake tenperatura altuan.Garbitasun handiko titaniozko aleazio helburuak adsortzio-gaitasun handia du gas aktiboetarako (adibidez, O2, N2, CO, CO2, ur-lurruna 650 °C-tik gora), eta ponparen horman lurruntzen den Ti filmak adsortzio-errendimendu handiko gainazal bat sor dezake. .Propietate honek Ti oso erabilia da hutsean ultra-altuko gasa erauzteko sisteman getter gisa. Ponpa, sputtering ioi-ponpa, etab. hobetzeko erabiltzen bada, sputtering ion-ponparen azken funtzionamendu-presioa 10-9PA bezain baxua izan daiteke.
Argitalpenaren ordua: 2022-04-25