NiAl Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua

Nikel Aluminiozko aleaziozko sputtering helburua hutsean urtzearen eta potentziaren metalurgiaren bidez sortzen da.Aluminioa eta nikela nahasketa NiAl galdaketa lingotea emateko beharrezkoa den kopuru batean.Galdaketako lingotea mozten da, nahi den xede-forma lortzeko.Koherentzia handikoa, ale-tamaina findua eta mikroegitura homogeneoa ditu, gas-puzterik edo pororik gabe.

Estalduraren eta substratuaren materialaren konbinazio bikaina dela eta, NiAl estaldurak 700 ℃ baino gutxiagoko errendimendu ona du.Orain NiAl sputtering helburua asko erabiltzen da higadura erresistenteak diren estalduretan, ebaketa tresnetan, moldeetan, automobilgintzan eta eraikuntzan barne.

Rich Special Materials Sputtering Helburuaren fabrikatzailea da eta nikel aluminiozko Sputtering Materialak ekoiz ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera.Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.