Handizkako NiV Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako fabrikatzailea eta hornitzailea |Aberatsa

Nikela vanadioa

NiV Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako Irudi nabarmendua

Deskribapen laburra:

Kategoria	Aleazio Sputtering Helburua
Formula kimikoa	NiV
Konposizioa	Nikela vanadioa
Garbitasuna	%99,9,%99,95,%99,99
Forma	Plakak, zutabe-helburuak, arku katodoak, neurrira egindakoak
Ekoizpen Prozesua	Hutsean urtzea
Tamaina eskuragarri	L≤4000mm, W≤350mm

Bidali mezu elektronikoa

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Nickel Vanadium Sputtering Helburuaren deskribapena

Urrea sarritan aplikatzen da zirkuitu integratuko geruzaren deposizioan, baina urtze baxuko AuSi konposatua maiz sortzen da Urrea Silizioarekin konbinatzen bada, eta horrek geruza ezberdinen arteko soltetasuna eragingo luke.Nickel purua aukera ona da itsasgarri geruzarako, eta hesi-geruza bat ere beharrezkoa da nikel eta urre geruzaren artean ugaltzea ekiditeko.Banadioak ezin hobeto ase lezake eskakizun hau urtze-puntu altuarekin eta ampere-dentsitate handiko edukierarekin.Beraz, nikela, vanadioa eta urrea zirkuitu integratuko industrian aplikatu ohi diren hiru material dira.Nickel Vanadium Sputtering Helburua vanadioa nikele urtuari gehituz fabrikatzen da.Ferromagnetismo baxuarekin, produktu elektronikoen magnetron sputtering aukera ona da, nikel geruza eta vanadio geruza aldi berean sor ditzaketenak.

Ni-7V wt% Ezpurutasun-edukia

Garbitasuna	Osagai Nagusia(% pisua)	Ezpurutasun kimikoak（≤ppm）							Ezpurutasuna Guztira(≤ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99,99	7±0,5	20	30	20	100	30	100	20	100
99,95	7±0,5	200	200	200	100	100	200	50	500
99.9	7±0,5	300	300	300	100	100	200	50	500

Nickel Vanadium Sputtering Helburu-ontziak

Gure Nickel Vanadium sputter helburua argi eta garbi etiketatu eta etiketatuta dago identifikazio eraginkorra eta kalitate-kontrola bermatzeko.Kontuz ibili behar da biltegiratzean edo garraioan sor daitezkeen kalteak saihesteko.

Lortu kontaktua

RSM-ren Nickel Vanadium sputtering helburuak purutasun oso handikoak eta uniformeak dira.Hainbat forma, garbitasun, tamaina eta preziotan daude eskuragarri.Garbitasun handiko film mehe estaldura-materialak ekoizten espezializatuta gaude, errendimendu bikainarekin, baita ahalik eta dentsitate handienarekin eta ahalik eta batez besteko ale-tamaina txikiena ere, moldeen estalduran, dekorazioan, automobiletako piezak, E baxuko beira, zirkuitu integratua erdieroaleak, film mehean erabiltzeko. erresistentzia, pantaila grafikoa, aeroespaziala, grabaketa magnetikoa, ukipen-pantaila, film meheko eguzki-bateria eta beste lurrun-deposizio fisikoa (PVD) aplikazioak.Mesedez, bidal iezaguzu kontsulta bat sputtering helburuei eta zerrendatuta ez dauden jalkitze-materialei buruzko uneko prezioei buruz.

Aurrekoa: WCu Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua

Hurrengoa: NiCr Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua