Sputtering helburu bat material elektroniko bat da, maila atomikoko substratu elektroniko bati aleazio bat edo metal oxido bat bezalako substantzia bat erantsiz film mehe bat eratzen duena.Horien artean, belztzeko filmaren sputtering helburua EL organiko edo kristal likidoko panelean film bat osatzeko erabiltzen da, kableatuak belztu eta TFT kablearen argi ikusgaiaren isla (erreflektantzia txikia) murrizteko.Sputter helburuak abantaila eta efektu hauek ditu.Aurreko produktuekin alderatuta, hainbat pantailaren fintasun-maila eta diseinu-askatasuna hobetzen laguntzen du eta erdieroaleen erlazionatutako produktuen kableatuak islatutako argiak eragindako zarata murrizten laguntzen du.
Aluminiozko helburuaren abantailak eta ondorioak:
(1) Aluminiozko helburua kableatuan eratu ondoren, argi ikusgaia murriztu daiteke
aurreko produktuekin alderatuta, isla baxua lor dezake.
(2) DC sputtering gas erreaktiborik gabe egin daiteke
aurreko produktuekin alderatuta, lagungarria da substratu handien film homogeneotasunaz jabetzea.
(3) Filma osatu ondoren, grabaketa prozesua kablearekin batera egin daiteke
egokitu materiala bezeroaren lehendik dagoen grabaketa-prozesuaren arabera, eta kablearekin batera grabatu daiteke lehendik dagoen prozesua aldatu gabe.Horrez gain, enpresak bezeroen sputtering baldintzen arabera laguntza ere emango du.
(4) Beroarekiko erresistentzia bikaina, uraren eta alkalien erresistentzia
Uraren erresistentziaz eta alkali erresistentziaz gain, beroarekiko erresistentzia handia du, beraz, filmaren ezaugarriak ez dira aldatuko TFT kableatuaren prozesatzeko prozesuan.
Argitalpenaren ordua: 2022-08-10