Sputtered molibdeno helburuak oso erabiliak izan dira elektronika industrian, eguzki-zeluletan, beira-estalduran eta beste esparru batzuetan, berezko abantailak direla eta.Miniaturizazioan, integrazioan, digitalizazioan eta adimenean teknologia modernoaren garapen azkarrarekin, molibdeno-helburuen erabilera areagotzen joango da, eta horien kalitate-eskakizunak ere gero eta altuagoak izango dira.Beraz, molibdeno-helburuen erabilera-tasa hobetzeko bideak aurkitu behar ditugu.Orain, RSM-ren editoreak hainbat metodo aurkeztuko ditu guztiontzat molibdeno-helburuen erabilera-tasa hobetzeko.
1. Gehitu bobina elektromagnetikoa atzeko aldean
Sputtered molibdeno-helburuaren erabilera-tasa hobetzeko, bobina elektromagnetiko bat gehi daiteke molibdeno-helburuaren atzeko aldean Magnetron sputtering planar aldean, eta molibdeno-helburuaren gainazaleko eremu magnetikoa handitu daiteke korrontea handituz. bobina elektromagnetikoa, molibdeno-helburuaren erabilera-tasa hobetzeko.
2. Hautatu helburuko material birakaria tubularra
Helburu lauekin alderatuta, helburu-egitura birakaria tubular bat aukeratzeak bere abantaila nabarmenak nabarmentzen ditu.Orokorrean, helburu lauen erabilera-tasa % 30 eta % 50ekoa baino ez da, eta biraketa-helburu tubularren erabilera-tasa % 80tik gorakoa izan daitekeen bitartean.Gainera, Magnetron sputtering helburua biratzen duzun hodi hutsa erabiltzean, helburuak barra finkoko iman-multzoaren inguruan biratu dezakeenez denbora guztian, ez da bere gainazalean birposiziorik egongo, beraz, biraka egiten duen helburuaren bizitza 5 aldiz luzeagoa da oro har. hegazkinaren xedearena baino.
3. Ordeztu sputtering ekipo berri batekin
Helburu-materialen erabilera-tasa hobetzeko gakoa sputtering ekipoen ordezkapena osatzea da.Molibdenozko sputtering xede-materialaren sputtering-prozesuan, sputtering-atomoen seiren bat inguru hutseko ganberaren horman edo euskardian metatuko da hidrogeno-ioiek kolpatu ondoren, hutseko ekipoak garbitzeko kostua eta geldialdi-denbora handituz.Beraz, sputtering ekipamendu berriak ordezkatzeak molibdenozko sputtering helburuen erabilera-tasa hobetzen lagun dezake.
Argitalpenaren ordua: 2023-05-24