Film meheko transistore kristal likidoen pantaila-panelak dira gaur egun pantaila lauko pantaila-teknologia nagusia, eta metalezko sputtering helburuak fabrikazio-prozesuko material kritikoenetako bat dira.Gaur egun, Txinan LCD panelen produkzio-lerro nagusietan erabiltzen diren metalezko sputtering helburuen eskaria altuena da lau helburu motetarako: aluminioa, kobrea, molibdenoa eta molibdeno niobio aleazioa.Utzidazu aurkez iezaiozu metalezko sputtering helburuen merkatuaren eskaria pantaila lauen industrian.
1、 Aluminiozko helburua
Gaur egun, kristal likidoen etxeko pantaila-industrian erabiltzen diren aluminiozko helburuak Japoniako enpresek dira nagusi.
2、 Kobrezko helburua
Sputtering teknologiaren garapen joerari dagokionez, kobrezko helburuen eskaeraren proportzioa pixkanaka handitzen joan da.Horrez gain, azken urteotan, kristal likidoen bistaratze-industriaren merkatuaren tamaina etengabe hazten ari da.Hori dela eta, kobrezko helburuen eskariak pantaila lauko pantailaren industrian goranzko joera erakusten jarraituko du.
3、 Sorta zabaleko molibdeno helburua
Atzerriko enpresei dagokienez: Panshi eta Shitaike bezalako atzerriko enpresek, funtsean, molibdenoaren xede-merkatua monopolizatzen dute.Etxean ekoiztua: 2018 amaieratik aurrera, barnean ekoitzitako gama zabaleko molibdeno helburuak aplikatu dira kristal likidoen pantaila-panelen ekoizpenean.
4、 Molibdeno niobio 10 aleazio helburua
Molibdeno niobio 10 aleazioak, molibdeno aluminiozko molibdenoaren ordezko material garrantzitsu gisa film meheko transistoreen difusio-hesiaren geruzan, merkatuaren eskari itxaropentsua du.Hala ere, molibdeno eta niobio atomoen arteko difusio-koefizientearen alde nabarmena dela eta, poro handiak sortuko dira niobio partikulen posizioan tenperatura altuko sinterizazioaren ondoren, sinterizazio-dentsitatea hobetzea zailduz.Gainera, soluzio solido sendoa molibdeno eta niobio atomoen erabateko hedapenaren ondoren eratuko da, haien ijezketa-errendimendua hondatzea eraginez.Hala eta guztiz ere, hainbat esperimentu eta aurrerapen egin ondoren, 2017an arrakastaz zabaldu zen 1000 × A Mo Nb aleazio helburuko totxoa baino gutxiagoko oxigeno edukiarekin, % 99,3ko dentsitatearekin.
Argitalpenaren ordua: 2023-05-18