Niobioaren xede-materialak estaldura optikoetan, gainazaleko ingeniaritza-materialen estalduran eta estaldura-industrietan erabiltzen dira, hala nola, bero-erresistentzia, korrosioarekiko erresistentzia eta eroankortasun handia.Estaldura optikoaren alorrean, batez ere produktu optiko oftalmikoetan, lenteetan, doitasun-optikan, eremu zabaleko estalduran, 3D estalduran eta beste zenbait alderditan aplikatzen da.
Niobio helburuko materialari helburu biluzi deitzen zaio normalean.Lehenik eta behin kobrezko atzealdeko helburura soldatzen da, eta, ondoren, niobio-atomoak oxido moduan uzteko substratu-materialean, sputtering estaldura lortuz.Niobioaren xede-teknologiaren eta aplikazioaren etengabeko sakontze eta hedapenarekin, niobioaren xede-mikroegituraren uniformetasunaren eskakizunak handitu egin dira, batez ere hiru alderditan: alearen tamaina fintzea, ehundura-orientazio agerikoa ez eta garbitasun kimiko hobetua.
Mikroegituraren eta propietateen banaketa uniformea helburu osoan zehar funtsezkoa da niobioaren xede-materialen sputtering errendimendua bermatzeko.Industria-ekoizpenean aurkitzen diren niobio-helburuen gainazalek ohiko ereduak erakusten dituzte, eta horrek asko eragiten du helburuen sputtering-errendimenduan.Nola hobetu dezakegu helburuen erabilera-tasa?
Ikerketaren bidez, ezpurutasun-edukia (helburuko garbitasuna) garbitasunean eragiten duen faktore garrantzitsua dela aurkitu da.Lehengaien konposizio kimikoa irregularra da eta ezpurutasunak aberasten dira.Geroago ijezketa prozesatu ondoren, eredu erregularrak eratzen dira niobio xede-materialaren gainazalean;Lehengaien osagaien banaketa irregularra eta ezpurutasun aberastea kentzeak eredu erregularrak sortzea saihes dezake niobio-helburuen gainazalean.Ale-tamainaren eta egitura-konposizioaren eragina xede-materialean ia arbuiagarria izan daiteke.
Argitalpenaren ordua: 2023-06-19