Helburu-materialaren erabilera zabalak hainbat lanbidetan xede-materialaren eskaria gero eta handiagoa da.Urrengo egingo dugu labur aurkeztu zuk zein den xedearen lehen mailako eskakizun funtzionalak, hoping zuri laguntzeko.
Garbitasuna: Puritatea helburuaren adierazle funtzional nagusietako bat da, xedearen garbitasunak filmaren funtzioan eragin handia duelako.Baina praktikan, xede-materialaren garbitasuna ez da berdina.Esate baterako, mikroelektronikaren lanbidearen hazkunde azkarrarekin, siliziozko oblearen tamaina 6 ", 8 "-tik 12"-ra garatu da, eta kablearen zabalera 0,5um-tik 0,25um-ra, 0.18um-ra eta 0.13um-ra ere murriztu da.Behin xede-garbitasunaren % 99,995ak 0,35 UMIC-ren eskakizun teknologikoak bete ditzake.0.18um lerroa prestatzeko xede-materialaren %99.999 edo baita %99.9999ko garbitasuna behar da.
Dentsitatea: xede solidoaren porositatea murrizteko eta sputtering filmaren funtzioa hobetzeko, helburuak normalean dentsitate handia izan behar du.Helburu-dentsitateak sputtering-tasa ez ezik, filmen propietate elektriko eta optikoetan ere eragiten du.Helburu-dentsitatea zenbat eta handiagoa izan, orduan eta hobea izango da pelikularen funtzioa.Gainera, xede-materialaren dentsitatea eta indarra handitu ziren, sputtering zehar estres termikoa hobeto jasateko.Dentsitatea xede-substantziaren adierazle funtzional garrantzitsuenetako bat ere bada.
Ezpurutasun-edukia: xede-solidoan dauden ezpurutasunak eta poroetako oxigenoa eta ur-lurruna dira metatutako filmen kutsadura-iturri nagusiak. Helburu ezberdinetarako material ezberdinek ezpurutasun-eduki desberdinetarako baldintza desberdinak dituzte.Esate baterako, erdieroaleen industrian erabiltzen diren aluminio puruak eta aluminio aleazio-helburuek baldintza bereziak dituzte metal alkalinoaren edukiaren eta elementu erradioaktiboen edukiaren inguruan.
Argitalpenaren ordua: 2022-06-06