Metalezko sputtering xede-materiala, estaldura-aleazio-sputtering estaldura-materiala, zeramikazko sputtering estaldura-materiala, boruro zeramikazko sputtering xede-materialak, karburo zeramikazko sputtering xede-materiala, fluoruro zeramikazko sputtering xede-materiala, nitruro zeramikazko sputtering xede-materialak, oxido zeramikazko helburua, seleniuro zeramikazko sputtering xede-materiala, Siliciuro zeramikazko sputtering xede-materialak, sulfuro zeramikazko sputtering xede-materiala, Telluride zeramikazko sputtering xedea, beste helburu zeramikazkoak, kromo-dopatutako silizio oxidozko zeramikazko helburua (CR-SiO), indio fosfuroaren helburua (InP), berun arsenuroaren helburua (PbAs), indio arsenuroa xede (InAs).
Garbitasun handiko eta dentsitate handiko sputtering helburuko materialak hauek dira:
Sputtering xede-materiala (garbitasuna: % 99,9-% 99,999)
1. Metal helburua:
Nikel-helburua, Ni, Titanio-helburua, Ti, zink-helburua, Zn, kromo-helburua, Cr, magnesio-helburua, Mg, Niobio-helburua, Nb, Tin-helburua, Sn, aluminio-helburua, Al, Indio-helburua, In, Burdina-helburua, Fe, Zirkoniozko aluminio-helburua, ZrAl, Titanio-aluminio-helburua, TiAl, Zirkonio-helburua, Zr, aluminio-siliziozko helburua, AlSi, silizio-helburua, Si, kobre-helburua Cu, tantalio-helburua T, A, germanio-helburua, Ge, zilarrezko helburua, Ag, kobaltoa helburua, Co, urrezko helburua, Au, gadolinioa, Gd, lantanoa, La, itrioa, Y, zerioa, Ce, wolframioa, W, altzairu herdoilgaitza, nikel-kromoa, NiCr, hafnioa, Hf, molibdeno helburua, Mo, Fe-Ni helburua, FeNi, wolframioa helburua, W, etab.
2. Zeramikazko xede-materiala
ITO xede-helburua, oxido ferrikoa, magnesio oxidoaren helburua, helburua, helburua, silizio-karburoa silizio-nitruroa titanio-nitruroa xede-helburua, xedea, zink-sulfuroa, zink oxidoa, kromo oxidoa, silizio dioxidoa, helburua, silizio-oxidoa, zerio oxidoa helburu, helburua, bost zirkonio dioxido oxigenoa HuaEr niobio helburua xede, helburua, titanio dioxidoa, zirkonio dioxidoa, hafnio helburua, helburua, titanio diboruro diboruroa zirkonio helburua, wolframio trioxidoa helburua, Aluminio trioxidoa xede tantalio pentaoxidoa, niobio pentaoxidoa xede, magnesio fluoruro fluoruroa helburua, zink seleniuroaren helburua, aluminio nitruroaren helburua, silizio nitruroaren helburua, boro nitruroaren helburua, titanio nitruroaren helburua, silizio karburoaren helburua, litio niobatoaren helburua, praseodimio titanatoaren helburua, bario titanatoaren helburua, lantanozko titanatoaren helburua, nikel oxidoaren helburua, sputtering helburua, etab. .
Argitalpenaren ordua: 2022-05-05