Hutsean estaltzeko materiala CoFeTaZr helburua Kobalto-Burdina-Tantalioa-Zirkonio aleazio helburua Magnetron Sputtering helburua

Hutsean estaltzeko materialaCoFeTaZr helburuaKobalto-Burdina-Tantalioa-Zirkonio aleazio helburua Magnetron Sputtering helburua,
CoFeTaZr helburua,
Kromo kobaltoa sputtering helburuaRich Special Materials-en aleazio zilarrezko sputtering materiala da Cr eta Co dituena.

Kromoa elementu kimiko bat da, greziar "chroma"-tik sortua, kolorea esan nahi duena.1. urtea baino lehen erabili zen eta Terracotta Armadak aurkitu zuen."Cr" kromoaren ikur kimiko kanonikoa da.Elementuen taula periodikoko bere zenbaki atomikoa 24 da, 4. aldian eta 6. taldean kokatuta dagoena, d-blokeari dagokiona.Kromoaren masa atomiko erlatiboa 51,9961 (6) Dalton da, parentesi artean dagoen zenbakia ziurgabetasuna adierazten duena.

Kobaltoa alemaniar "kobald" hitzetik sortu zen elementu kimiko bat da, iratxoa esan nahi duena.1732an aipatu zen lehen aldiz eta G. Brandtek behatu zuen."Co" kobaltoaren ikur kimiko kanonikoa da.Elementuen taula periodikoko bere zenbaki atomikoa 27 da, 4. aldian eta 9. taldean kokatuta dagoena, d-blokeari dagokiona.Kobaltoaren masa atomiko erlatiboa 58,933195(5) Dalton da, kortxeteetako zenbakia ziurgabetasuna adierazten duena.

Chronium Cobalt Sputtering Helburuak hutsean urtzea eta PM bidez fabrikatzen dira.CrCo-k indar espezifiko handiagoa du eta higadura-erresistentzia handia behar zen hainbat esparrutan erabili izan da industria aeroespaziala, mahai-tresnak, errodamenduak, palak, etab.

Rich Special Materials Sputtering Helburuen fabrikazioan espezializatuta dago eta Chronium Cobalt Sputtering Materialak ekoitzi ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera.Informazio gehiago lortzeko, jar zaitez gurekin harremanetan.Zirkonio burdina kobaltoa tantalioaren xede-materiala purutasun handiko kobaltoa, burdina, tantalioa, zirkonioa da xede-materialaren hutsune handiko urtze bidez, teknologiak helburu-produktuaren oxigeno-edukia eta erabilera eraginkortasunez kontrolatu ditzake. Moldearen hozte berezia, aleazio likido hozte azkarra da, aleazio-helburuko materialaren egitura uniformea, konposizioaren banaketa uniformea, txikia, tenperatura altuko eta presio handiko dentsifikazio-prozesuaren bidez, materiala oso trinkoa da. kalitatezko filmak.Bero tratamenduaren ondoren, xedearen buru magnetikoaren erlazioa (PTF) nabarmen handitzen da, eta kobalto-burdina-tantalo-zirkonio helburuak metatutako film meheak geruza magnetiko leun garrantzitsuak dira grabazio magnetiko bertikalean.