AlSi Alloy Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea PVD estaldura Neurrira egina

Helburuak aluminio eta silizio hautsak nahastuz prestatzen dira eta ondoren trinkotuz dentsitate osorako.Horrela trinkotutako materialak aukeran sinterizatu egiten dira eta gero nahi den xede-forman eratzen dira.Gure aluminiozko siliziozko sputtering helburuak forma geometriko angeluzuzenetan, zirkularretan edo neurrira egindakoetan eskuragarri daude, % 10-90 atomikoko aluminiozko edukia eta purutasun handikoa, mikroegitura homogeneoa, dentsitate handikoa eta lan-bizitza luzea dute.

Aluminio Silizioa automobilgintza, hegazkin eta eraikuntza industrietan oso erabilia da ezaugarri desiragarrien konbinazio bereziagatik, pisu arina, eroankortasun termiko ona eta propietate mekanikoak barne.Material honen dentsitatea 2,6 ~ 2,7 g/cm3 da, eroankortasun termikoaren koefizientea 101 ~ 126W/(m·℃), trakzio modulua 71,0GPa, neke muga ± 45MPa.Aluminio-silizio aleazioek korrosioarekiko erresistentzia, mekanizazio eta soldagarritasun bikainak dituzte.Aluminio-siliziozko aleazioak automobilgintzako, aeroespazialeko eta kontsumoko produktuen hainbat aplikaziotan erabiltzen dira, hala nola, motorraren blokeak eta zilindroen atorrak, pistoiak, errodamenduen aleazio-materialak eta kontsumo-elektronika osagaiak.+2.Urtze-puntu altua, harikortasuna, gogortasuna eta korrosioarekiko erresistentzia ditu.