FeNi Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua

Iron Nickel Sputtering Target hutsean urtze, galdaketa eta PM bidez fabrikatzen da.Iragazkortasun magnetiko oso handia du eremu-indar baxuan.

Iron Nickel helburu batek (Nikel>% 30 pisua) aurpegian zentratutako egitura kubikoa erakusten du giro-tenperaturan.Konbentzionalki Nickel Burdina helburuek nikeleren % 36 baino gehiagoko konposizioa dute, eta lau kategoriatan bana daitezke: % 35 ~ % 40 Ni-Fe , % 45 ~ % 50 Ni-Fe , % 50 ~ % 65 Ni-Fe eta % 70. ～% 81 Ni-Fe.Bakoitzak histeresi-begizta magnetiko zirkular, angeluzuzen edo planoko materialetan egin liteke.

Nickel Burdina (Ni-Fe) Sputtering Helburuak aplikazio ugaritan erabiltzen dira, adibidez biltegiratze euskarri magnetikoak eta EMI blindaje gailuak.

Rich Special Materials Sputtering Helburuen fabrikazioan espezializatuta dago eta Iron Nickel Sputtering Materialak ekoitzi ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera.Garbitasuna% 99,99 eta gure konposizio tipikoak horni genitzake: Ni-Fe10at%、N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.